edi設(shè)備在產(chǎn)水過程中可能會遇到很多問題，比如電導(dǎo)率高就經(jīng)常會遇到，但是很多人連造成這種現(xiàn)象的原因是什么都不知道，這樣對于維修來說是不利的。

edi設(shè)備在產(chǎn)水過程中可能會遇到很多問題，比如電導(dǎo)率高就經(jīng)常會遇到，但是很多人連造成這種現(xiàn)象的原因是什么都不知道，這樣對于維修來說是不利的。下面為大家介紹一下其中的原因。

EDI超純水系統(tǒng)設(shè)備出水出水水體是全部超純水系統(tǒng)制取設(shè)備中平穩(wěn)的，能連續(xù)不斷制得使用人規(guī)定品質(zhì)的超純水系統(tǒng)，完成自動(dòng)式電腦上無人工干預(yù)，而且不需強(qiáng)酸強(qiáng)堿藥物再造，不容易出現(xiàn)工業(yè)廢水。

可是那么極致的設(shè)備也是有出水出水品質(zhì)轉(zhuǎn)變的情況下，超純水系統(tǒng)電導(dǎo)率高是現(xiàn)階段困惑設(shè)備的問題之一。

一般電導(dǎo)率高單純性的了解得話便是系統(tǒng)軟件不產(chǎn)生變化，系統(tǒng)軟件自身不存在的問題得話單純性的電導(dǎo)率升高是由于ro反滲透膜部件的脆化導(dǎo)致的除鹽率的降低。此外設(shè)備在運(yùn)作一段時(shí)間后產(chǎn)水量沒轉(zhuǎn)變，電導(dǎo)率升高，排放量擴(kuò)大。表明膜被還原性物質(zhì)溶解，電導(dǎo)率升高。

危害EDI產(chǎn)水水體的緣故，關(guān)鍵有：

1、滲水水體：溫度、PH、滲水水體（電導(dǎo)率、強(qiáng)度、siO2、TOC）等；

2、膜堆積垢或受生物入侵。

3、滲水分散二氧化碳增大，可調(diào)節(jié)二級ro反滲透滲水PH來減少，或改進(jìn)除碳器高效率。

4、滲水電導(dǎo)率擴(kuò)大，最好是在2-10中間。

設(shè)備一切正常運(yùn)作電導(dǎo)率忽然升高，排放量擴(kuò)大，這類狀況是因?yàn)閞o反滲透膜部件聯(lián)接密封環(huán)泄漏導(dǎo)致的電導(dǎo)率大幅度升高。

EDI超純水系統(tǒng)設(shè)備在不久打開時(shí)，假如這時(shí)候二級電導(dǎo)率升高那麼難以降下去，或是是降下去必須好長時(shí)間時(shí)間，這類電阻升高狀況多出現(xiàn)在EDI超純水系統(tǒng)設(shè)備的雙極ro反滲透工藝流程處，一般與氫氧化鈉溶液加上量有關(guān)系，提議調(diào)節(jié)加上量。

以上就是為大家介紹的“EDI產(chǎn)水電導(dǎo)率高的原因及解決方案”，希望能對您有所幫助。這里有幾種不同的情況，如果我們有類似的可以進(jìn)行參考，如果沒有的就需要另外找原因了。