反滲透純水機主要工藝流程：
1.原水箱(可選)
反滲透設(shè)備流程表：源水存儲，用以沉淀水里比較大的細沙顆粒物和其它可沉淀化學(xué)物質(zhì)。與此同時可以緩存源水管路壓力不穩(wěn)定對水處理裝置的危害（如壓力過低或過高造成液位傳感器的反映）。
2.原水泵：系統(tǒng)供電工作壓力穩(wěn)定，供電平穩(wěn)。

反滲透純水機?

3.多物質(zhì)過濾裝置：多過慮層過濾裝置主要用以去除原水里的沉淀物.銹跡.膠體溶液化學(xué)物質(zhì).懸浮固體等細顆粒物在20um之上的化學(xué)物質(zhì)。反沖洗.正方向沖洗等實際操作可采用手閥控或自動式控制板。確保設(shè)備的水體，增加設(shè)備的使用期限。
4.活性炭過濾器：系統(tǒng)采用殼牌活性炭過濾器?；钚蕴技饶芪诫娊赓|(zhì)溶液正離子，又能開展離子交換法吸附?；钚蕴嘉椒墒垢呒核徕浀暮难跤?5mg/L（O2）減少到2～7mg/L（O2）。除此之外，吸附功效提升了被吸附和拷貝表面的濃度值，對去除黑色素.臭味.很多生物化學(xué)有機化合物.減少水里高錳酸鹽指數(shù)值和污染物質(zhì).去除水里三鹵（THM）等污染物質(zhì)也具有催化反應(yīng)。反沖洗.正方向沖洗等實際操作可采用手閥控或自動式控制板。確保設(shè)備的水體，增加設(shè)備的使用期限。與此同時，該設(shè)備具備自維護保養(yǎng)系統(tǒng)，運作成本費很低。
5.正離子變軟系統(tǒng)/加藥裝置：用以R/O設(shè)備融解固態(tài)的濃縮.排出和談水的運用，避免濃水端造成CaCO3.MgCO3.MgSO4.CaSO4.BaSO4.SrSO4.siso4的濃縮物質(zhì)，措施不力RO設(shè)備后一個膜部件的濃水側(cè)，因為超出其均衡溶解性參量，造成結(jié)晶體和沉淀，進而毀壞膜部件的原有特點，在進到ro反滲透膜部件以前，應(yīng)應(yīng)用正離子變軟設(shè)備或合理的反滲透阻垢劑避免硫化物.二氧化硅和硫氰酸鉀的結(jié)晶體沉淀。
6.精密過濾器：精密過濾器用以去除進水里殘余的懸浮固體.非曲線圖顆粒物.膠體溶液等化學(xué)物質(zhì)，使RO系統(tǒng)等事后設(shè)備運作更為可以信賴。過濾芯為5um熔噴濾芯，避免上端過慮模塊去除超過5um的殘渣。避免膜進到反滲透純水機，毀壞膜表面，進而毀壞膜的除鹽特性。
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